Om 3-amino-5-merkapto-1,2 inhaleras, 4-triazol, vänligen flytta patienten till frisk luft; Vid hudkontakt, ta av de förorenade kläderna och tvätta huden noggrant med tvålvatten och vatten. Om du känner dig obekväm, kontakta läkare. om du har ögonkontakt, separera ögonlocken, skölj med rinnande vatten eller normal saltlösning och sök genast läkare; vid förtäring, gurgla omedelbart, framkalla inte kräkningar och kontakta läkare omedelbart.

Den används för att bereda en rengöringslösning för fotoresist

I den vanliga tillverkningsprocessen för LED och halvledare bildas masken för fotoresist på ytan av vissa material och mönstret överförs efter exponering. Efter att ha erhållit det önskade mönstret måste den återstående fotoresisten avlägsnas före nästa process. I denna process är det nödvändigt att helt ta bort den onödiga fotoresisten utan att korrodera något substrat. För närvarande består fotoresistrengöringslösningen huvudsakligen av polärt organiskt lösningsmedel, starkt alkali och / eller vatten etc. Fotoresist på halvledarskivan kan avlägsnas genom att doppa halvledarkretsen i rengöringsvätskan eller tvätta halvledarkretsen med rengöringsvätskan .

En ny typ av rengöringslösning för fotoresist har utvecklats, vilket är ett icke-vattenhaltigt rengöringsmedel med låg etsning. Den innehåller: alkoholamin, 3-amino-5-merkapto-1,2,4-triazol och samlösningsmedel. Denna typ av rengöringslösning för fotoresist kan användas för att ta bort fotoresist i LED och halvledare. Samtidigt har den inget angrepp på substratet, såsom metallaluminium. Dessutom har systemet starkt vattenmotstånd och vidgar dess driftsfönster. Det har ett bra applikationsutsikter inom rengöring av LED och halvledarchip.